家喻户晓，在现在的芯片制造工艺中，光刻机、刻蚀机是必不行少的两个伏击器具。

若是从通盘的半导体修复的老蓝本看，光刻修复占其中的20%，而蚀刻修复占其中的23%，两者占其中的43%的比例，足以领会光刻--蚀刻有多伏击了。

光刻与蚀刻亦然成套使用的，光刻工艺后，即是蚀刻工艺，不行偏废，不行替代。

而光刻机方面，国内的时刻很逾期，这个全球皆明晰的。但刻蚀机方面，国内的时刻可不差，全皆是国际先进水平。

之是以这样强，这是因为一家公司，那即是中微半导体，由尹志尧博士于2004年创立。

在创立中微半导体之前，尹志尧博士曾在英特尔、泛林、诓骗材料等企业均责任过，累积了大量的警告、时刻和东说念主脉。

按照媒体的说法，尹志尧个东说念主在半导体行业领有86项好意思国专利和200多项列国专利，被誉为“硅谷最有设置的华东说念主之一”。

自后他看到中国半导体时刻相对逾期，于是在2004年的时期，他带着钱，带着一批精英东说念主才归国（据称第一批是15个），创办了中微，誓要冲破海外的把持。

在2007年的时期，中微研发出了第一代介质刻蚀机，况且全球初度遴荐可单台寂寞操作的双反馈台，适度以至比海外同类产物还要高30%。

然后中微束缚的勇猛，中微的刻蚀机时刻束缚的跳跃，达到了全球滥觞进的水平，现在照旧被用于某晶圆厂的3nm芯片出产线中。

而近日，中微更是暗示，中微在中国电容耦合等离子体（CCP）刻蚀修复商场的商场份额预测将从客岁10月的24%增至60%。在电感耦合等离子体（ICP）器具商场，其份额可能会从险些为零飞腾到75%。

计较来看，中微本年在国内的刻蚀商场份额，可能栽种至60%，而之前占据主导地位的好意思国泛林半导体、诓骗材料等，沿路被中微打的节节溃退了。

接下来，但愿其它国产半导体修复，十分是光刻机，也巧合像中微的刻蚀机雷同，达到全球先进水平，已毕5nm、3nm，那么中国芯片产业，就再也不怕好意思国卡脖子了。

       原文标题 : 国产刻蚀机大跳跃：达到3nm，拿下国内60%份额，逼退好意思企